sistemi di essiccazione raggi ultravioletti macchine con uscita prolungata

      I nuovi forni GST/UV dicroici mod. D e DQ serie DRY-OFFSET IN di G Technologies con raffreddamento misto aria-fluido sono stati appositamente studiati per l’essiccazione di inchiostri e vernici U.V. fotosensibili, garantendo velocità di produzione elevate e basse temperature in fase di stampa.

      La nuova gamma di riflettori mod. D e DQ è realizzata in speciali estrusi di alluminio; la depressione creata dai ventilatori di raffreddamento lampada e riflettore nonché le schermature anti-riflesso assicurano assoluta incolumità agli operatori e salvaguardia dell’ambiente di lavoro.

      La rotazione pneumatica dei riflettori è sincronizzata elettricamente con la macchina offset permettendo arresti di servizio senza lo spegnimento delle lampade U.V. che, in tal caso, funzionano a potenza ridotta.

u  Sistema di raffreddamento misto aria-fluido

u  Raffreddamento misto aria-fluido

u  Collettori intercettazione passaggio fluido

u  Rotazione del riflettore in fase di stand-by

u  Sistema automatico di riduzione potenza lampada U.V. in fase di stand-by

u  Regolazione potenza lampade U.V. in sincronia con velocità macchina

u  Sistema dicroico per stampa di materiali termosensibili (opzionale)

u  Dispositivo UV SENSOR per monitoraggio efficienza lampada U.V. (opzionale)

u  Rapida estrazione dei forni per operazioni di manutenzione